近年來，美國對中國加大打壓力度，尤其是在科技領域上的制裁，令不少中國企業都如鯁在喉。但中國很快就意識到如果不發展相關領域的空缺技術，哪怕是今天解決了眼前的困難，也不能保證日後不被人扼住喉嚨。於是中國近段時間一直致力於發展國內相關領域的核心技術。日前，據中科院提交的相關報告指出，蘇州奈米所取得了超高精度光刻機上的重大進展。

中科院發現新型超高精度鐳射光刻技術‍

據悉，中科院此次是發現了一種不需要用到EVU光刻機就可以進行7nm以下工藝加工的新型超高精度鐳射光刻技術，而這也令不少人對中國科研技術的發展由衷地發出讚歎。要知道，荷蘭的ASML公司作為世界唯一一個可以生產EUV光刻機的企業，在中國沒有此次重大發現之前，世界上任何7nm以下的產品工藝都必須要使用由該公司生產出來的EUV光刻機才能完成，這也造就了一定程度了，ASML壟斷了全球的光刻機市場。

其實，在美國對華為5G技術全面封鎖之前，中國對於光刻機的認識程度還不夠，而光刻機作為能夠製作手機核心部件晶片的工具，在行業內又是格外被重視的。此前，中國的手機系統基本上除了安卓就是ios，但這兩大主流系統中的核心晶片都來自其他國家，那麼美國一旦從光刻機上下手，中國相關企業此前在智慧手機別的方面所作出的成果等於是被一鍵清零。

中國有望實現光科技技術的自給自足‍

事實上，荷蘭的ASML公司還曾對外表態稱，他們並不擔心中國能夠複製一臺光刻機出來，因為光刻機技術有近90％是高精度儀器才能夠做到，而中國並沒有這個條件，當然，這主要是因為那些高精度儀器並非出自同一個國家，而是分散在多個發達國家，由於涉及到的國家太多，自然是無法獲得生產光科技所需要的用到的全部儀器。

於是，中科院便針對這一現狀，從現實出發，開創出來了一條與中國相匹配的光刻機道路，而現在中國竟然如此快速的就在之前從未曾涉足的領域取得了核心技術的重大突破，相信用不了多長時間，中國就能夠在光刻機技術上實現自給自足。